アプリケーション｜日本結晶光学株式会社

当社が提供する製品は、さまざまなテクノロジーの最前線を支えています。
例えば、レーザー耐久性の高いフッ化カルシウムは、半導体露光装置等に使われ、半導体製造の稼働に貢献しています。
また、当社の高品質なX線デバイスは、空港の荷物検査装置などのセキュリティシステムに不可欠とも言える製品となっています。

光学結晶
シンチレータ・X線検出器

半導体製造を支える光学結晶

当社のCaF₂(フッ化カルシウム)は、真空紫外域から近赤外域まで高い透過率を持ち、ArF、KrF等のエキシマレーザーにも優れた耐久性を有します。
このため、半導体露光装置、エキシマレーザー装置など半導体製造産業での主要な位置を占める装置に使用されています。また、放送局用テレビカメラや天体望遠鏡にも採用されています。

当社CaF₂の最終使用製品

半導体露光装置 ArF液浸ステッパークライアント業種：半導体露光装置製造メーカー

半導体露光装置ArFステッパークライアント業種：半導体露光装置製造メーカー

半導体露光装置は、Siウェハー上にコンピュータのCPUやメモリーの回路パターンを作る装置です。写真と同じように、回路パターンが刻まれたマスク像をウェハ上に投影します。回路パターンは数十ナノメートルサイズなので、光源に紫外線レーザーであるArFレーザーを用い、さらに縮小投影します。さらに解像度を上げるためレンズとウェハの間を純水で満たす方法もあります(液浸法)。当社CaF₂は、これらの装置のレンズ等に使用されています。

半導体露光装置用ArFレーザークライアント業種：エキシマレーザ装置メーカー

上記半導体露光装置のレーザー光源として使用されます。当社製品は、レーザーチューブの窓材、プリズム等に使用されます。

ウェハー・マスク検査装置クライアント業種：ウェハー・マスク検査装置メーカー

上記半導体露光装置で使用されるマスクや、Siウェハやマスクの検査に使用されます。当社CaF₂はレンズ、プリズムに使用されます。